關(guān)于作者
中國科學(xué)院金屬研究所
同步輻射及其應(yīng)用（中）
材料新視野
2015年05月11日
研究方法：
？光電子能譜（XPS）
？軟X射線光譜
？硬X射線光譜（透射方法、熒光方法）
？X射線衍射
？光刻和超微細(xì)加工等
光電子能譜-XPS
XPS表面分析方法，樣品表面的元素含量與形態(tài)，深度約為3-5nm。表面分析的主要內(nèi)容有：
？表面化學(xué)組成：
表面元素組成、表面元素的分布、表面化學(xué)鍵、化學(xué)反應(yīng)等
？表面結(jié)構(gòu)：
表面原子排列、表面缺陷、表面形貌
？表面原子態(tài)：
表面原子振動狀態(tài)、表面吸附(吸附能吸附位) 等
？表面電子態(tài)：
表面電荷密度分布及能量分布、表面能級性質(zhì)、表面態(tài)密度分布、價帶結(jié)構(gòu)
